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PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND LIGHT GUIDE FOR IT

机译：投影曝光系统及其光导

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The present invention relates to a projection exposure system for microlithography with a light source for generating working light (9), an illumination system for illuminating a mask having structures to be imaged and a projection objective for imaging the structures of the mask onto a substrate, the illumination system and / or projection objective being at least one The light guide element (14) comprises which operating light (11) differs from the working light (9) and which has a metallic protective layer (17).

机译：本发明涉及一种用于微光刻的投影曝光系统，其具有用于产生工作光的光源（9），一种用于照明具有要成像的结构的掩模的照明系统以及一种用于将掩模的结构成像到基板上的投影物镜，导光元件（14）包括哪个工作光（11）不同于工作光（9）并且具有金属保护层（17）。

著录项

公开/公告号DE102019218693A1

专利类型
公开/公告日2020-01-16

原文格式PDF
申请/专利权人 CARL ZEISS SMT GMBH;
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申请/专利号DE102019218693A1
发明设计人 KLAUS THURNER;
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申请日2019-12-02
分类号G03F7/20;G02B1/14;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 11:01:06

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